主要功能：
采用磁控濺射沉積與離子刻蝕相結合，對專用復合材料進行內表面鍍膜處理，沉積致密金屬涂層。設備配置4套柱狀磁控濺射源，設計有電動頂升系統(tǒng)，可以同時對4件柱狀管材產品進行鍍膜沉積工藝處理，實現復合材料內表面涂層工藝的小批量加工。
技術參數：
真空室：?650×750mm
極限真空：≤2×10-4Pa
沉積速率：≥2μm/h
產品規(guī)格：?145mm×500
產品數量：4件/爐
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